Днес главният изпълнителен директор на Intel Пол Отелини потвърди слуховете, че водещият производител на чипове започва строежа на нов завод в Китай. Той ще се намира в североизточната част на страната, в пристанищния град Далиан в провинцията Лияонинг. Компанията ще инвестира около $2.5 млрд. долара в новото съоръжение, като се очаква сериозна финансова помощ и от китайското правителство. Очаква се той да бъде напълно готов в средата на 2010 година. Тогава заводът ще започне да произвежда чипове използвайки 65 нм технология върху 300 мм подложки. Китайското правителство отдавна се стреми да привлече подобни големи проекти, предлагайки привлекателни условия за инвеститорите.